半導體凈化車間潔凈度等級標準及要求半導體特性決定其制造過程必須有潔凈度要求，環(huán)境中雜質(zhì)對半導體的特性有著改變或破壞其性能的作用，而雜質(zhì)各式各樣，如金屬離子會破壞半導體器件的導電性能，塵埃粒子破壞半導體器件的表面結構等，所以在半導體器件生產(chǎn)過程中對什么都須嚴格控制。針對這個問題，合景凈化工程公司有著自己的專業(yè)技術和行業(yè)經(jīng)驗，服務了眾多行業(yè)頭部企業(yè)，經(jīng)過合景凈化接手的全國各地廠房建設均獲得了優(yōu)質(zhì)工程建設的榮譽。

       在半導體制造業(yè)中，由于其昂貴設備的min感性和制造過程的復雜性，工廠的布局變得不可以輕易更改，初始的不合理布局結果會導致龐大的物料搬運成本、無效的生產(chǎn)以及重新布局時所需要的大量成本。特別是迅速發(fā)展的亞微米工藝對生產(chǎn)場所空氣潔凈度要求特別高，所有半導體制程設備都須安置在隔絕粉塵進入的密閉空間中，這樣，工廠投產(chǎn)以后整體生產(chǎn)系統(tǒng)才能發(fā)揮大的生產(chǎn)效能。

       半導體器件生產(chǎn)環(huán)境按單位體積重規(guī)定的塵埃粒子數(shù)標準分成潔凈度的等級。一般分為：10級、100級、1000級、10000級、100000級，國際標準IOS14644-1、國標GB50073-2013、美聯(lián)邦標準中均有規(guī)定潔凈室和潔凈區(qū)內(nèi)空氣以大于或等于被考慮粒徑的粒子最大濃度限值進行劃分的等級標準。

       電子產(chǎn)品性能、質(zhì)量的提高和生產(chǎn)過程的微細化，日益要求生產(chǎn)環(huán)境具有一定的空氣潔凈度級別和控制凈化車間內(nèi)工藝生產(chǎn)所需的各類高純物質(zhì)的供給質(zhì)量，目前國內(nèi)外還沒有統(tǒng)一電子產(chǎn)品的空氣潔凈度等級或生產(chǎn)環(huán)境控制要求的統(tǒng)一 規(guī)定，各種電子產(chǎn)品的生產(chǎn)廠家依據(jù)其生產(chǎn)的產(chǎn)品品種、所采用的生產(chǎn)工藝技術、生產(chǎn)工藝設備、生產(chǎn)用原輔料以及凈化車間運行的實踐經(jīng)驗確定設計建造凈化車間的空氣潔凈度級別等級（如下表格）。